立方氮化硼膜相关论文
立方氮化硼(cBN)是一种高硬度、耐辐射、耐腐蚀、抗高温的宽禁带(Eg=6.4eV)多功能性材料,因其在机械、电子、物理化学等方面独特的......
采用活性反应离子镀装置，通过电子束蒸镀金属纯硼，在氮、氩混合气体等离子体中，合成了ｃ－ＢＮ膜。对沉积后的ｃ－ＢＮ膜，在充入高纯氮的条件下，原位进行......
对于一种硬度可能超过金刚石的新型超硬材料β－Ｃ３Ｎ４的研究已经成为国际上材料科学研究的一个热点；文章综述了目前国际上研究β－Ｃ＿３Ｎ＿４材料的现状......
离子注入技术在半导体工业中已成为重要的加工技术,离子注入金属材料表面改性也开始走向实用阶段.对这项技术人们又提出了两种新的......
该研究用一种新的方法－－直流磁控溅射法制备了立方氮化硼膜（ｃ－ＢＮ）。因为它的沉积速率较高，未来工业化的潜力较大，这一技术对工业界具有很大意......
采用逆序法研究了通过活性反应离子镀技术沉积在单晶硅（１００）上的ｃ－ＢＮ膜生长过程。在Ｘ射线谱分析仪上，用氩离子剥离ｃ－ＢＮ膜并进行膜的成分的深度分布......
采用自行研制的磁增强活性反应离子镀系统,在脉冲偏压条件下成功地合成了高品质立方氮化硼(c-BN)薄膜.用傅立叶变换红外谱(FTIR)分......
