多靶共溅射相关论文
釆用磁控多靶共溅射的方法通过改变ZrB2功率在硅基底上制备Zr-B-Nb-N薄膜,主要研究不同ZrB2 的功率对复合膜结构以及性能的影响.应......
采用多靶射频磁控共溅射方法制备了SmCo/Cr薄膜,用XRD和VSM测量了各样品的微结构和矫顽力.结果表明,SmCo膜具有较强的垂直各向异性......
为研究不同ZrB2溅射功率对Zr-B-Nb-N纳米复合膜结构和机械性能的影响,利用磁控多靶共溅射的方法,在不同ZrB2溅射功率下制备基底温......
利用多靶磁控共溅射技术,在不同基底偏压下制备了多组NbN-NbB2纳米复合膜,用以探究偏压对复合膜显微结构和力学性能的影响.分别利......
