基底偏压相关论文
使用脉冲直流反应磁控溅射在不同基底偏压的条件下制备Nb2O5薄膜。制备过程为金属Nb靶在纯氧环境中反应完成。使用光谱仪，原子力显......
采用过滤阴极真空电弧技术以PH_3为掺杂源,施加0—200 V基底负偏压,制备了掺磷四面体非晶碳(ta-C:P)薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS......
真空阴极电弧离子镀作为物理气相沉积的一种方法，尤其适用于在金属表面制备各种金属膜或化合膜，本文用该方法制备了TiAlN薄膜，并对结......
本文通过磁控溅射方法制备了低浓度Ti掺杂DLC薄膜，研究沉积参数对低浓度Ti-DLC薄膜结构和力学性能的影响，并重点分析沉积参数和测试......
利用射频磁控溅射技术在不同工作气压和不同基底偏压条件下在Si(100)基底上设计合成了ZrB2/AIN纳米多层膜.利用X射线衍射、扫描电......
采用高功率脉冲磁控溅射法在Si和高速铜基底上制备类石墨（Graphite—likecarbon，GLC）非晶碳膜，研究了基底偏压对薄膜微观结构、机械性......
空间润滑技术是支持航天工程的基础性关键技术,与航天工程的成败直接相关,对有效载荷的使用性能具有重要影响。近年来,我国航天事......
利用射频磁控溅射技术在不同工作气压和不同基底偏压条件下在Si(100)基底上设计合成了ZrB2/AlN纳米多层膜。利用X射线衍射、扫描电......
考察了基底负偏压对类金刚石薄膜（DLC）在无水和有水环境下摩擦性能的影响。利用电子回旋共振等离子体化学气相方法沉积制备DLC薄膜,......
采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)金属陶瓷基体上沉积了TiSiN涂层,用X射线衍射仪、扫描电镜、显微硬度仪和划痕仪等实验手段研究了基底......
针对不同基底偏压下制备的MoSi2薄膜呈现不同结构及性能的问题,采用直流磁控溅射工艺,在单晶硅表面制备了MoSi2薄膜。采用X射线衍......
真空阴极电弧离子镀作为物理气相沉积的一种方法,尤其适用于在金属表面制备各种金属膜或化合膜,本文用该方法制备了TiAlN薄膜,并对......
利用多靶磁控共溅射技术,在不同基底偏压下制备了多组NbN-NbB2纳米复合膜,用以探究偏压对复合膜显微结构和力学性能的影响.分别利......
