极紫外多层膜相关论文
近年来,极紫外（Extreme ultraviolet-EUV）光刻技术飞速发展,其关键问题——无缺陷掩模的制造备受关注。由于现有工艺水平无法实现无......
极紫外多层膜利用各个界面反射光的相长干涉,在极紫外波段获得了高反射率,已成为极紫外光刻设备中反射式光学系统的核心元件.本文......
针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
掠入射X射线反射（GIXR）是光学薄膜表征的优选方法,但它需要建立相应的物理模型并采用一定的算法进行拟合求解。针对目前普遍使用的进......
采用磁控溅射法在Si（100）基底上镀制了膜系结构分别为[Mg/Co]20、[Mg/SiC]20的两组多层膜,以研究Mg基多层膜的稳定性。对放置在室温......
使用matlab软件编程计算了钼/硅多层膜的反射率随膜层数、波长及入射角等的变化.结果显示,在极紫外波段,存在中心波长为13.3 nm和1......
极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件,极紫外光刻系统对多层膜的性能有着极其苛刻的要求,包括高反射、低应力、高均......
在极紫外波段,任何材料都表现出极强的吸收特性,因此,采用多层膜实现高反射率是构建正入射式光学系统的唯一途径。本文总结了极紫......
极紫外光刻是采用波长为13.5 nm的极紫外光作为光源,实现半导体集成电路工艺22 nm以及更窄线宽节点的主要候选光刻技术。性能优越......
