衰减相移掩模相关论文
论述了衰减相移掩模光刻技术的原理和曝光实验研究，给出了光刻曝光实验部分结果，并与传统光刻方法作了比较
The principle and expe......
该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用，即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和......
介绍了衰减相移掩模用于提高光刻分辨率的原理，给出了结构形式，介绍了与传统Ｃｒ掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的制作方法，提供了......
:本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。
This paper intr......
:本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。更多还原......
提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法,介绍这种方法的原理和制作工艺,并给出这种方法制作的衰减相移掩模用......
在霍普金斯理论的基础上，对方孔的传统掩模、衰减相移以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算表明，衰减相......
论述了衰减相移掩模光刻技术的原理和曝光实验研究，给出了光刻曝光实验部分结果，并与我刻方法作了比较。......
用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术主要有无铬相移掩模(CPM),交替相移掩模(APSM)、衰减相移掩模(AttPSM)和混合......
