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本文通过对溅射过程中各种条件的选择介绍了如何制备高精度的CrSi2电阻薄膜的方法.同时简要的介绍了电阻网络的设计方法.
采用磁控溅射制备高精度CrSi2薄膜电阻技术研究
【摘 要】
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本文通过对溅射过程中各种条件的选择介绍了如何制备高精度的CrSi2电阻薄膜的方法.同时简要的介绍了电阻网络的设计方法.
【机 构】
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中电科技集团电子第二十四所
【出 处】
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第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会
【发表日期】
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2005年期
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