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本文应用有限元分析软件ANSYS9.0模拟了多磁极约束磁增强型反应离子蚀刻装置内部的磁场分布.模拟结果表明,通过磁极的配置及磁化方向的调整,可以改善蚀刻装置内部磁场的强度及其分布的均匀性,从而兼顾蚀刻速率和蚀刻的均匀性.
干法蚀刻中的磁场模拟及优化
【摘 要】
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本文应用有限元分析软件ANSYS9.0模拟了多磁极约束磁增强型反应离子蚀刻装置内部的磁场分布.模拟结果表明,通过磁极的配置及磁化方向的调整,可以改善蚀刻装置内部磁场的强度
【机 构】
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华南理工大学,物理科学与技术学院,广东,广州,510640
【出 处】
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第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会
【发表日期】
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2005年期
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