离子蚀刻相关论文
公开号 ＣＮ１１８８８１７Ａ 申请人 ＭＥＭＣ电子材料有限公司 地址 美国密苏里州 一种用于清洗硅体和可控地降低覆盖在硅基底上的二氧化硅厚度的......
集成光学亚微米光栅的原子力显微镜表征＊李燕徐迈（中国科学院激发态物理开放研究实验室，长春１３００２１）（中国科学院长春物理研究所，长春１３００２１）张玉书（集成......
设计并制作了一种基于激光直写工艺的多模高聚物1×8光功率分配器。该器件采用了独特的次级非对称结构实现了光功率在各个输出......
在离子蚀刻预处理及磁控溅射镀过渡镍层之后,在TC4钛合金上制备了结合力良好的镍−碳化硅复合镀层。扫描电镜表征及摩擦磨损测试的......
用离子蚀刻加扫描电镜观察和微区成分分析的方法研究了耐磨白口铁中球形碳化物的结构。实验结果表明，球形碳化物为多晶体，其形成机制......
钛硅沸石TS-1[1]的微孔体系由同是十元氧环的直通道和"Z"字形通道相交而成, 孔径0.51～0.56 nm, 晶体结构与硅铝ZSM-5沸石的MFI结构......
近年来随着机器的小型化、成本的降低,各石英晶振生产企业不断追求生产效率的提高以及精度的提高.在石英晶振生产过程中,目标频率......
用光刻和反应离子刻蚀的方法对硅材料光子晶体板的制作进行了研究.实验发现,与激光直写曝光相比,光刻曝光更有利于胶上图形的陡直......
本文首先对离子蚀刻的原理和用途作了简短的介绍，接着介绍了ＬＳＫ－６００型离子蚀刻机的设计原 则和结构设计，最后介绍了蚀刻机的实验结果。......
<正> 日本大金工业公司4月15日宣布开发了新的全氟聚醚油,与现有同类产品相比,蒸气压特性、流动性等方面更为优越。从4月下旬开始......
采用全息法制备了光刻胶光栅，并用该光栅掩膜离子蚀刻，刻得槽深为１．６μｍ的玻璃光栅，再采用Ｋ＾＋／Ｎａ＾＋交换法制备玻璃光波导光栅，用６３３ｎｍ波长激光由一端棱镜......
