【摘 要】
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随着MEMS技术的迅速发展,军事装备、通信网络信息业、生物医学工程、汽车工业等领域对金属微器件的需求日趋增多。与此同时,UV-LIGA技术作为MEMS中制作金属微器件的主要手段之一,受到了密切的关注和实际的应用。本课题主要研究了金属微光栅及金属微柱阵列结构的制作工艺,具体内容包括高深宽比镍金属微光栅和镍金属微柱阵列结构的制作及高温灰化去除SU-8胶的工艺研究三个方面。利用UV-LIGA工艺在金属基
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随着MEMS技术的迅速发展,军事装备、通信网络信息业、生物医学工程、汽车工业等领域对金属微器件的需求日趋增多。与此同时,UV-LIGA技术作为MEMS中制作金属微器件的主要手段之一,受到了密切的关注和实际的应用。本课题主要研究了金属微光栅及金属微柱阵列结构的制作工艺,具体内容包括高深宽比镍金属微光栅和镍金属微柱阵列结构的制作及高温灰化去除SU-8胶的工艺研究三个方面。利用UV-LIGA工艺在金属基底上制作了具有高深宽比的金属微光栅。为削弱厚胶制作过程中的边珠效应,提出了“低速-高速”的匀胶方法。采用
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