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光刻机是集成电路产业的基础设备,光刻机的线宽决定着集成电路的特征尺寸。光刻机研制水平的提高能够带动整个集成电路产业界的技术升级,能够有效地促进国家经济的发展和提高国家高技术领域的核心竞争力。光刻机俨然已成为衡量国家综合国力的重要标志。极紫外光刻机是当今光刻机研制中的热点。掩模台是极紫外光刻机中的核心组成部分,由于极紫外光刻机套刻精度和产业化的要求,掩模台要实现高速大行程的纳米级运动,这使得掩模台成为了一个电、气、磁耦合的复杂机械系统。利用SolidWorks、ANSYS静力分析、ANSYS模