直流反应磁控溅射方法制备碳掺杂TiO2薄膜及其可见光活性

来源 :物理化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cnars

【摘要】

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室温下通过直流反应磁控溅射的方法，利用碳钛镶嵌靶在Ar／O2气氛中制备了碳掺杂纳米TiO2薄膜，并通过X射线衍射（XRD）、UV—Vis透射光谱以及光电化学的方法对薄膜进行了表征．XRD测试结

【作者】

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朱蕾崔晓莉沈杰杨锡良章壮健

【机构】

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复旦大学材料科学系

【出处】

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物理化学学报

【发表日期】

：

2007年11期

【关键词】

：

直流反应磁控溅射法碳/钛镶嵌靶碳掺杂的二氧化钛薄膜光电化学 DC reactive magnetron sputtering mothed Graphi

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室温下通过直流反应磁控溅射的方法，利用碳钛镶嵌靶在Ar／O2气氛中制备了碳掺杂纳米TiO2薄膜，并通过X射线衍射（XRD）、UV—Vis透射光谱以及光电化学的方法对薄膜进行了表征．XRD测试结果表明，靶中碳和钛的面积比小于0．10时，碳掺杂的引入有利于TiO2薄膜的晶格生长，并随靶中碳面积的增加，薄膜的结晶度也相应提高．由透射光谱计算得到的禁带宽度表明，靶中碳和钛的面积比为0．05时，薄膜的禁带宽度由纯TiO2薄膜的3．4eV减小到3．1eV．光电测试结果表明，靶中碳和钛的面积比小于0．10时，碳的引入可

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