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在摩尔定律的指引下，全球半导体工业在2001—2008年期间，仍能以年平均增长10％的速率进步，尽管比以前的17％慢，这也反映出半导体工业中使用的基础硅材料正逼近其极限。不管如何，光刻技术总是半导体工业的“领头羊”。
从光刻机市场变化看光刻技术的发展趋势
【摘 要】
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在摩尔定律的指引下，全球半导体工业在2001—2008年期间，仍能以年平均增长10％的速率进步，尽管比以前的17％慢，这也反映出半导体工业中使用的基础硅材料正逼近其极限。不管如何，光刻技
【机 构】
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应用材料中国公司顾问
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2004年6期
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