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研制单位：中微半导体设备（上海）有限公司产品介绍：中微公司的双反应台刻蚀除胶一体机PrimoiDEA 源于中微的一个新理念，即：将一个或两个双反应台D—RIE或AD—RE工艺模块、远程等离子体源下游除胶器（DsA）反应腔整合在同一个平台上。
7产品名称：双反应台刻蚀除胶一体机Primo iDEA
【摘 要】
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研制单位：中微半导体设备（上海）有限公司产品介绍：中微公司的双反应台刻蚀除胶一体机PrimoiDEA 源于中微的一个新理念，即：将一个或两个双反应台D—RIE或AD—RE工艺模块、远程等离子
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2016年2期
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