【摘 要】
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为制作高质量的铋吸收光栅以提高X射线微分相衬成像系统性能,针对表面改性环节对微铸造技术进行改进,以Bi2O3取代SiO2作为改进的浸润层.在周期为3μm、深度为150 μm的分析光
【机 构】
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深圳大学光电工程学院,光电子器件与系统教育部/广东省重点实验室,广东深圳518060
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为制作高质量的铋吸收光栅以提高X射线微分相衬成像系统性能,针对表面改性环节对微铸造技术进行改进,以Bi2O3取代SiO2作为改进的浸润层.在周期为3μm、深度为150 μm的分析光栅结构上制作了具有高填充率的分析光栅,获得了该光栅的扫描电子显微镜照片.为进一步表明改进微铸造技术制作分析光栅的优越性,与改进前的分析光栅进行对比.将两种光栅先后置于X射线微分干涉相衬成像系统中,分别获取了系统莫尔条纹.从最终的条纹对比度上判断,改进后的微铸造技术制作的分析光栅填充率明显提高.
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