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对钨基材料表面上射频磁控溅射沉积的碳膜进行了氩离子和氮离子的辐照，并作了ＸＲＤ及ＸＰＳ的分析。分析结果表明，不同离子辐照引起碳膜微结构的变化亦不同，。氮离子辐照不仅使碳膜元素与基体元素发生混合，而且导致碳膜发生相变，生成碳－化合物，如α－Ｗ２Ｃ、ＷＣｘ，同时氮离子本身与反应生成氮－钨化合物，如ａ－ＷＮ。