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为进一步提高高通光率网栅的电磁屏蔽性能，满足其环境适应性要求，针对线宽约9um、膜厚约0．3um、周期为400um×400um的细薄铜网进行了镀镍工艺实验。首先，经涂胶、直写、显影、镀铜、去胶等工序，在K9基底上制备出细薄铜网栅试件。然后，对试件超声波除油，用10％的HCl溶液浸泡试件10～15S进行镀前活化处理。接着，将试件放入按成分要求配制好的化学镀镍溶液中，在恒温85℃条件下化学镀镍40～60min。最后，从化学镀镍溶液中取出试件，放入烘箱烘干，缓慢冷却至室温。实验结果显示：得到的试件镀层