【摘 要】
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一、前言 随着半导体工业的发展和大规模集成电路的制备,提出对痕量钠的监控。因为痕量钠的存在,会影响半导体材料的质量,从而大大降低器件的性能。为此需要一种灵敏、简便
【机 构】
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科学院上海治金研究所,科学院上海治金研究所
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一、前言 随着半导体工业的发展和大规模集成电路的制备,提出对痕量钠的监控。因为痕量钠的存在,会影响半导体材料的质量,从而大大降低器件的性能。为此需要一种灵敏、简便而又可靠的分析技术。
I. INTRODUCTION With the development of the semiconductor industry and the preparation of large-scale integrated circuits, the monitoring of trace sodium has been put forward. Because of the presence of trace sodium, the quality of the semiconductor material can be compromised, greatly reducing the performance of the device. For this purpose, a sensitive, simple and reliable analytical technique is needed.
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