电子束纳米分辨率光刻

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本文侧重分析电子束纳米光刻中的若干限制因素,包括电子光学系统中的象差、电子束与抗蚀剂的相互作用(散射与二次电子效应)、衬底条件等,并对已用于进行纳米分辨率电子束光刻中的一些方法进行了归纳,讨论了其应用前景. This paper focuses on the analysis of several limitations of electron beam nanolithography, including aberrations in electron optical systems, electron beam-to-resist interactions (scattering and secondary electron effects), substrate conditions, etc., Some methods for nanometer resolution electron beam lithography are summarized, and their application prospects are discussed.
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