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半绝缘InP长单晶的生长
半绝缘InP长单晶的生长
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:charmLover
【摘 要】
:
通过对高压液封直拉法InP单晶生长过程的几个关键因素的分析,设计了合适的热场系统,有效地降低了孪晶产生的几率.在自己设计制造的高压单晶炉内首先将铟和磷进行合成,然后采
【作 者】
:
孙聂枫
毛陆虹
郭维廉
周晓龙
杨瑞霞
张伟玉
孙同年
【机 构】
:
天津大学电子信息工程学院,河北半导体研究所专用集成电路国家重点实验室,河北工业大学信息工程学院,天津农学院机电工程系
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2007年z1期
【关键词】
:
INP
孪晶
直径
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目(批准号:60276008)
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通过对高压液封直拉法InP单晶生长过程的几个关键因素的分析,设计了合适的热场系统,有效地降低了孪晶产生的几率.在自己设计制造的高压单晶炉内首先将铟和磷进行合成,然后采用坩埚随动技术等重复生长了直径为50mm,长190mm和直径80~100mm,长150mm的半绝缘InP单晶.
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