表面波器件制造工艺(下)

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三、刻蝕和剝离大多数表面波器件有金属薄膜的叉指结构。有时电极达几百甚至几千条,而且通常要求线条间不短路。在下节,我们将讨论形成这种金属电极结构的化学腐蚀法、离子轰击刻蚀法和剝离技术等并试图对各种技术的优点作出估价。化学腐蝕 相当于所需金属图形的光致抗蚀图形经曝光和显影后,通常需要烘烤 Third, etching and stripping Most surface wave devices have metal film interdigital structure. Sometimes hundreds or even thousands of electrodes, and usually require no short circuit between lines. In the next section, we will discuss chemical etching, ion bombardment and lift-off techniques for forming such metal electrode structures, and attempt to evaluate the merits of various technologies. Chemical Etching Photoresist patterns equivalent to the desired metal pattern after exposure and development usually require baking
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