【摘 要】
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据《微纳电子技术》2004年第11期报道,罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部(原Rodel公司)推出的用于90nm低K半导体装置的LK系列阻挡层研磨液,正在进行鉴定,并在包括逻辑器件
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据《微纳电子技术》2004年第11期报道,罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部(原Rodel公司)推出的用于90nm低K半导体装置的LK系列阻挡层研磨液,正在进行鉴定,并在包括逻辑器件制造商在内的多家工厂中进行试验。 LK系列是CUS1351研磨液之后的下一代产品,包含LK301及LK309两种阻挡层
According to “Micro and nano electronic technology” 2004 eleventh report, Rohm and Haas electronic materials company CMP Technology Division (formerly Rodel company) for 90nm low-K semiconductor device LK series barrier layer slurry is being identified , And in a number of factories, including logic device manufacturers to test. LK series is CUS1351 grinding fluid after the next generation of products, including LK301 and LK309 two kinds of barrier
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