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报道了用直流反应溅射法在低氧分压条件下(6．0×10^-3～8．0×10^-3Pa)沉积ZrO2介质膜的制备工艺，XRD分析表明该条件下制备的zd02介质膜结构均为非晶态，表面光热技术测量其在10．6um波长下的吸收系数为1．223×10^-3～1．285×10^-3cm^-1，且吸收率随氧分压的升高而降低．这表明，表面光热测量是一种既简单又有很高灵敏度的实时检测技术，而在直流反应溅射法中氧分压是一个非常敏感的工艺参数，并显著地影响着膜层的光吸收．