【摘 要】
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炉室是单晶炉的中心环节,内置坩埚、晶体材料、加热系统和保温罩等。直拉法是在半导体领域中应用最广,产量最大的单晶制备方法。本文以提拉法单晶炉为例先介绍不同于其它设备
【机 构】
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西安理工大学,西安理工大学 陕西西安710048,陕西西安710048
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炉室是单晶炉的中心环节,内置坩埚、晶体材料、加热系统和保温罩等。直拉法是在半导体领域中应用最广,产量最大的单晶制备方法。本文以提拉法单晶炉为例先介绍不同于其它设备的各种炉室结构、形状及原因,指出有关的附属结构。然后根据压力的不同对炉室进行了分类。最后详细论述了抽真空充气系统的综合方法及工作原理。
Furnace chamber is the center of single crystal furnace, built-in crucible, crystal material, heating system and insulation cover. Czochralski method in the semiconductor field is the most widely used, the largest single crystal production methods. This paper takes Czochralsha single-crystal furnace as an example to introduce the structure, shape and reason of various furnaces different from other equipments, and points out the related subsidiary structure. Then according to the pressure of the furnace chamber were classified. Finally, the comprehensive method and working principle of vacuum pumping system are discussed in detail.
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