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采用低能量的砷离子注入和可抑制沟道效应的硅表面预先无定形技术,分别得到了0.13μm N~+/P结和0.17μm P~+/N结,并应用于0.5μm CMOS集成电路的制造。
浅结工艺研究及其在0.5μmCMOS集成电路中的应用
【摘 要】
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采用低能量的砷离子注入和可抑制沟道效应的硅表面预先无定形技术,分别得到了0.13μm N~+/P结和0.17μm P~+/N结,并应用于0.5μm CMOS集成电路的制造。
【机 构】
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航天部第二研究院计算机应用和仿真技术研究所,骊山微电子学研究所
【出 处】
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固体电子学研究与进展
【发表日期】
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1993年04期
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