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用双源电子束蒸发的方法，在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜．通过改变两种膜料蒸发速率的比例，得到的各个膜层，其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化．从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO2蒸发速率比变化的规律，并讨论了这种淀积方法的优越性．
双源电子束蒸发制备Si／SiO2光学薄膜的工艺
【摘 要】
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用双源电子束蒸发的方法，在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜．通过改变两种膜料蒸发速率的比例，得到的各个膜层，其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化．从实验上得出了混
【机 构】
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中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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2006年9期
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