Ou-40Ni-20Cr合金在含Cl^-介质中的电化学腐蚀行为研究

来源 :沈阳师范大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mm7458106
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利用动电位扫描法和交流阻抗技术研究了传统电弧熔炼制备的Cu-40Ni-20Cr合金在不同Cl^-浓度的腐蚀介质中的电化学腐蚀行为.结果表明:合金在单一Na2SO4介质中具有较低的腐蚀电流,腐蚀速度较慢,腐蚀过程由电化学控制腐蚀,电化学阻抗谱呈单容抗弧特征.在含Cl^-腐蚀介质中,随着Cl^-浓度的增加,自腐蚀电位不同程度负移,腐蚀电流增大,腐蚀速度加快.Cl^-浓度大于0.02mol·L^-1时,出现Warburg阻抗特征,腐蚀过程由电化学控制转为扩散控制;加入Cl^-后,极化电阻减小,腐蚀过程
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