【摘 要】
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采用高频磁控溅射研制出的Cr-Si薄膜,方阻为500Ω/□～5kΩ/□,TCR小于50×10~(-6)/℃,并在生产中得到应用。
The Cr-Si film developed by high-frequency magnetron sputter
【机 构】
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北京半导体器件一厂,北京半导体器件一厂,北京半导体器件一厂
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采用高频磁控溅射研制出的Cr-Si薄膜,方阻为500Ω/□～5kΩ/□,TCR小于50×10~(-6)/℃,并在生产中得到应用。
The Cr-Si film developed by high-frequency magnetron sputtering has a square resistance of 500Ω / □ to 5kΩ / □ and a TCR of less than 50 × 10 -6 / ° C, and has been used in production.
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