【摘 要】
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本文介绍了用射频溅射法制备非晶态CoFeBMo软磁薄膜的工艺过程,较系统地研究了高频输入功率、氩气压、负偏压以及集辉磁场对膜矫顽力、磁感应强度、起始磁导率和电阻率的影响
【机 构】
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山东大学物理系,山东大学物理系,山东大学物理系,山东大学物理系,山东大学物理系
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本文介绍了用射频溅射法制备非晶态CoFeBMo软磁薄膜的工艺过程,较系统地研究了高频输入功率、氩气压、负偏压以及集辉磁场对膜矫顽力、磁感应强度、起始磁导率和电阻率的影响,从而找出最佳工艺条件,制备出较好的非晶态软磁薄膜。
In this paper, the process of preparing amorphous CoFeBMo soft magnetic thin films by radio frequency sputtering is introduced. The influences of high frequency input power, argon pressure, negative bias voltage and concentration magnetic field on the coercive force, magnetic induction, Initial permeability and resistivity, so as to find out the best process conditions, to prepare a better amorphous soft magnetic film.
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