【摘 要】
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采用化学蒸淀法,当淀积温度为300—500℃时,SnO_2薄膜的膜电阻可低达35—45Ω/□,可见光光谱透过率可大于85%.这种薄膜的电学与光学特性,与其结晶状况有着密切的对应性,膜的
【机 构】
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华中师范大学应用物理研究所,华中师范大学物理系
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采用化学蒸淀法,当淀积温度为300—500℃时,SnO_2薄膜的膜电阻可低达35—45Ω/□,可见光光谱透过率可大于85%.这种薄膜的电学与光学特性,与其结晶状况有着密切的对应性,膜的结晶程度越高,其导电性越强,随着晶粒的细化,其可见光透过率则会显著地提高.
The chemical vapor deposition method, when the deposition temperature is 300-500 ℃, the film resistance of SnO_2 film can be as low as 35-45Ω / □, the visible light spectral transmittance can be more than 85% .This film’s electrical and optical properties, There is a close correspondence with its crystalline state. The higher the degree of crystallinity of the film, the stronger its conductivity. As the grain refinement, the visible light transmittance will be significantly increased.
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