【摘 要】
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用化学气相沉积(CVD)的方法制备出的金刚石薄膜具有很高的硬度和优异的耐磨能力,但在干摩擦过程中,金刚石薄膜经常造成摩擦对偶的严重磨损,使金刚石薄膜的应用受到一定的限制
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放实验室
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用化学气相沉积(CVD)的方法制备出的金刚石薄膜具有很高的硬度和优异的耐磨能力,但在干摩擦过程中,金刚石薄膜经常造成摩擦对偶的严重磨损,使金刚石薄膜的应用受到一定的限制[1,2].本文用微波等离子体化学气相沉积的方法,先在单晶Si(100)片上制备出厚度为400 nm左右的纳米金刚石薄膜,然后采用高能N离子束轰击的方法,对纳米金刚石薄膜进行离子束轰击,以期达到改善金刚石薄膜摩擦性能的目的.
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