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包含不可溶解的物质(Zr 和 Cr ) 的纯 Cu 电影和 Cu 合金电影在 Si (100 ) 底层上被扔，面对界面的本国的低值氧化物(SiOx ) ，由磁控管劈啪作响。样品真空在 300 之间被退火
Thermal performance of sputtered Cu films containing insoluble Zr and Cr for advanced barrierless Cu
【摘 要】
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包含不可溶解的物质(Zr 和 Cr ) 的纯 Cu 电影和 Cu 合金电影在 Si (100 ) 底层上被扔，面对界面的本国的低值氧化物(SiOx ) ，由磁控管劈啪作响。样品真空在 300 之间被退火
【机 构】
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SchoolofMaterialsScienceandEngineering
【出 处】
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Transactions of Nonferrous Metals Society of China
【发表日期】
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2010年2期
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