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在中国科学院上海应用物理研究所的扫描质子微探针装置上，研制了图形化扫描器，同时研究了适合质子束刻写的光刻胶制备、显影、定影技术。在此基础上，开展高能聚焦质子束无掩模刻写实验，在厚度约11μm的PMMA光刻胶上刻写出高纵横比的任意图案，取得了初步质子刻写结果，为进一步开展质子纳米束刻写奠定基础。
高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步
【摘 要】
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在中国科学院上海应用物理研究所的扫描质子微探针装置上，研制了图形化扫描器，同时研究了适合质子束刻写的光刻胶制备、显影、定影技术。在此基础上，开展高能聚焦质子束无掩模刻
【机 构】
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中国科学院上海应用物理研究所,信阳师范学院
【出 处】
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核技术
【发表日期】
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2009年6期
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