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纳米尺度全耗尽SOI MOSFET阈值电压的修正模型
纳米尺度全耗尽SOI MOSFET阈值电压的修正模型
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:l342016022
【摘 要】
:
针对纳米器件中出现的量子化效应,考虑了薄层全耗尽SOI MOSFET沟道反型层电子的量子化,研究了反型层量子化效应对阈值电压的影响。结果表明,沟道反型层的量子化效应导致阈值
【作 者】
:
王瑾
刘红侠
栾苏珍
【机 构】
:
西安电子科技大学微电子学院
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2007年6期
【关键词】
:
SOI
MOSFET
量子效应
阈值电压
反型层
SOI MOSFET
Quantization effects
Threshold-voltage
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针对纳米器件中出现的量子化效应,考虑了薄层全耗尽SOI MOSFET沟道反型层电子的量子化,研究了反型层量子化效应对阈值电压的影响。结果表明,沟道反型层的量子化效应导致阈值电压增大,推导并给出了纳米尺度全耗尽SOI MOSFET的阈值电压修正模型。
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