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本文介绍了分步重复投影光刻机的i线和g线投影光刻物镜主要技术指标、设计要点、研制中解决的关键单元技术和设计试制结果。结果表......
<正> 1 引言目前,集成电路已经从60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,其增长过程遵从一个......
检验曝光台校正透镜的修正效果,通常是通过在生产线上实际制管来进行.这种方法费时费力,并且存在各制作工序误差的积累.本文研制了......
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<正> 光学曝光技术在八十年代得到了飞速发展,它已成为半导体微细加工极为重要的手段。光学微细加工技术的大发展,促进了半导体集......
