台阶仪相关论文
纳米薄膜是一种新型的材料,由于其特殊的结构特点,使其作为功能材料和结构材料都具有良好发展前景.膜厚的精确测量至关重要,本文使......
我们用Ｈｅｎｋｅ型软Ｘ射线源完成了栅网的接触式成像，采用Ｔａｌｙｓｔｅｐ台阶仪测量了不同曝光时间ＰＭＭＡ光刻胶的溶解速率。由测量曲线可知光刻胶在显影开始时速率......
用PHI 600型扫描俄歇探针、200型台阶仪和Q-920型图象分析仪,测定了35Cr Ni3MoV钢、Al-5.5 Zn-1.4Mg合金和Ti-5Al-2.5Sn合金的溅射......
在掺铌钛酸锶(NST)的衬底上,通过加入抑制开裂剂聚乙二醇对异辛基苯基醚(triton X-100),利用溶胶-凝胶法制备了厚达4.6μm的锆钛酸......
本文提出了一种多入射角椭偏术无损测定吸收薄膜ｎ、 ｋ、 ｄ的方法（ＱＷＤ－８４法）。叙述了它的基本原理和数据处理方法，探讨了测定技术中的几个要点，给......
用CWCO_2激光诱发SiH_4反应,在石英基片上淀积多晶硅膜,它的Raman谱表明,激光诱发反应时间越长,结晶度越高.SEM 结果表明,不同淀积......
本文讨论了运用分光光度计一台阶仪与Hadley方程确定太阳能光谱范围内均匀薄膜复折射率n_c=n-ik的方法。提出了应用Hadley方程测量......
采用ＣＶＤ技术实现了Ａｌ２Ｏ３薄膜的数字化生长，实验结果表明这种生长方法具有生长温度低、层厚可控等特点，生长出的薄膜每周期生长厚度约为１．１９。
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用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）对Ｘ光激光实验使用的Ｎｄ薄膜靶的表面氧化进行了分析，结合Ａｒ离子束刻蚀进行元素的深度分布剖析，得到了表面氧化层厚度，所得结果与......
基于车灯生产工艺，研制了一套适合于车灯反射面膜厚在线测量的装置。同时介绍了测量原理和试验过程，并分析了试验结果。
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在６６０℃下以ＳｉＨ４－ＮＨ３－ＣＯ２作为反应气体利用常压ＣＶＤ（ＡＰＣＶＤ）设备沉积得到了氧氮玻璃薄膜．此温度比文献报道的ＡＰＣＶＤ法低２００℃以上，有效地降低了沉积温度．实验发现ＮＨ３中水汽对沉......
氧化锌是一种重要的压电与光电材料,用粉靶代替常规的固体陶瓷靶溅射沉积ZnO薄膜,对基底的加热温度、溅射气压和氧气的混合比率等......
一、引言 用BF_2代替B对CMOS源、漏P管注入具有几方面的优点。第一,束流大;第二,容易形成浅结;第三,湿O_2退火时,依赖于反偏电压,......
本文报道了以四氯化钛(TiCl_4)和硅烷(SiH_4)为源物质,采用等离子增强化学气相淀积工艺(PECVD)制备硅化钛薄膜的方法;着重研究了气......
我们用AIXTRON生产的LP-MOCVD系统进行了InGaAs(P)/InP材料的生长研究,用X-ray双晶衍射仪、PL光荧光光谱仪、α-台阶仪及C-V仪等分......
表面起伏靶是惯性约束聚变（ＩＣＦ）分解实验中的重要实验用靶。本文报导了采用离子束刻蚀和激光干涉两种方法制备初始微扰振幅和波长分别在......
介绍了以激光干涉法形成正弦调制起伏图形，结合电镀图形转移工艺获得了图形模板，采用旋转涂覆等工艺将调制图形转移至掺溴聚苯乙烯薄......
介绍用热蒸发结合光刻技术以及离子束刻蚀或热磷酸腐蚀的方法 ,制备用于测量X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶的工艺 .对两种......
研究3ω分光膜在1064nm的激光损伤特性。采用电子束蒸发的方式制备了两种不同材料组合的分光膜，分别对其在波长1064nm激光辐照下的......
本文采用三步共蒸发方法制备Cu(GaxIn1-x)Se2薄膜,在第二步结束达到最大富Cu量时,中断薄膜沉积,形成Cu(GaxIn1-x)Se2与CuxSe的混合......
本文采用朗缪尔探头法和台阶仪法相结合对射频增强非平衡磁控溅射(RF-UBM)产生的金属等离子体的特性进行了测定,主要测量了不......
本文利用磁控溅射法在Ti基底上制备了WS2/Ag纳米复合薄膜,通过X射线衍射、场发射扫描电镜和能谱仪表征薄膜的结构和形貌,利用......
在碲镉汞红外探测器的制备过程中,常常需要准确获得其p-n结的结深.由于碲镉汞材料的特殊性质,很多用于其他半导体材料的常规方法都......
本文研究了α-200台阶仪测试系统重复性和再现性(R&R).详细介绍了R&R分析的统计方法,样本的制备,测试方案及测试结果,还就结果进行......
该文利用台阶仪、扫描电镜（ＳＥＭ）和Ｘ射线双晶衍射仪，研究了线切割硅片和内圆切割硅片的表面切割损伤和损伤层厚度。实验指出线切割硅片表面......
利用各向异性腐蚀和键合工艺,提出了一种新的自停止腐蚀方法,该方法可以得到大于1μm厚的均匀硅膜,可用于微传感器研制。
Using a......
采用火焰水解法(FHD)在Si基上淀积SiO预制材料，然后在真空中/空气气氛中高温处理(1380℃)，制得玻璃化的SiO膜材料；该材料膜厚适中(10～3......
为了获得实验所需要的Ｚｒ衰减膜，他们用直流磁控溅射的方法对Ｚｒ衰减膜的制备工艺进行了探索，用自制的α测厚仪和α－ｓｔｅｐ２００台阶仪测量了Ｚｒ膜的质量厚......
以直径为3mm,高为1mm的Cu44.25Ag14.75Zr36Ti5圆棒状块体非晶合金为研究对象,研究了Al和Si两种不同元素在Cu44.25Ag14.75Zr36Ti5块......
用台阶仪、Normaski和原子力显微镜图貌分析了与HfO/SiO薄膜激光损伤密切相关的表面微结构缺陷节瘤、划痕和孔洞等缺陷的形态结构.......
为合理设计接触式台阶测量仪,建立了它的简化数学模型,经理论计算,结果与理论值有较大误差.通过有限元分析软件、采用8节点6面体单......
用封闭和开口两种热壁外延法在GaAs(100)衬底上生长ZnSe薄膜。着重讨论了这两种方法对所生长薄膜质量的影响。α台阶仪的测量、X-......
本文通过原子力显微镜和台阶仪观察测试PECVD氮化硅薄膜的表面形貌及其在HF缓冲液中的被腐蚀速率,研究了用SiH4和NH3作反应气......
通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响......
本文叙述了用椭偏仪多次入射选择最佳法测量纳米厚度非透明薄膜原理及方法，给出了由此方法测量得到的数据和用迭代法（下降法）计算得到......
在MEMS器件设计及工艺监控中需要知道所用材料的弹性模量。提出了一种适合MEMS器件加工用的弹性模量测量方法,采用MEMS器件中典型......
本文叙述了用椭偏仪多次入射选择最佳法测量纳米厚度非透明薄膜原理及方法，给出了由此方法测量得到的数据和用迭代法（下降法）计算得到......
用两种方法测量了几种金属薄膜的密度．介绍了应用卢瑟福背散射（ＲＢＳ）技术结合台阶仪测厚来测量薄膜密度的测量方法，并将所得结果进行了讨论......
以传统机械扫描式台阶仪的测量原理及结构特点为基础，分析此类台阶仪影响计量性能的主要原因，提出提升台阶仪计量性能的有效方法，通过......
微压力接触式台阶仪是一种二维形貌检测仪,针对汽车金属缸垫等薄片型金属板冲压零件的表面尺寸测量研制而成。本文从工作原理出发,......
