对准系统相关论文
介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机的对准软件设计,详细分析了此类曝光机对准系统的设计方案,软件设计结构以及扫描场的校正过程.......
当电力、煤炭、石油等不可再生能源频频告急，新能源革命在全球展开。太阳能作为一种新兴可再生资源，在不远的将来将成为世界能源供应......
随着芯片特征尺寸的减小,光刻成像技术的不断提高,而关键尺寸(CDs)的缩小则产生了更为精确的套刻精度.这些套刻精度在已随着工作台......
对掩模 硅片同轴对准系统中影响对准精度的诸因素进行了理论分析 ,阐述了误差形成机理及相应的对策 ,以理论分析指导精度实验取得......
0 引言现代高精度加工系统中,常常需要对被加工工件的尺寸进行实时检测和控制。当工件处于高速运动或人无法接近的环境时(如激光照......
舰载武器对准系统是以计算机为平台,结合多种先进技术的高新技术产品,使得武器系统对准工作更加快捷精密,系统软件在其中起着非常......
针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证.采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的......
压电微音叉与钨探针结合,构成SPM(扫描探针显微镜)的扫描测头。将双测头对称置于微球的赤道圆截面处,构成微球球度差动测量系统。......
微电子技术的不断发展,对光刻设备精度的要求越来越高,特别是在一些特殊器件的制作领域,要求基片多次曝光后必须达到较高的套刻精......
ITER转运车的对准系统由托架和对准销等组成。托架使转运车能在装置端口前停靠；使车厢能在各方位上运动，能产生必需的推动力和反作用......
EVG620HBL Gen Ⅱ是EVG用于高亮度发光二极管（HB-LED）批量生产的第二代全自动掩模对准系统。GenⅡ在发布第一代EVG620HBL的1年后推出......
面向MEMS、纳米技术和半导体市场的晶圆键合与光刻设备的领先供应商EV集团（EVG）于日前推出全新的Smart View~？ NT3对准系统。该对准系......
给出了基于外参考干涉对准技术的对准系统的对准原理及信号处理流程。包括：基于外参考干涉对准技术的对准系统的对准原理;电子信号......
提出了用于提高X射线光刻对准系统自动对准效率和对准精度的图像边缘增强技术,并进行了数值分析。采用先单个再整体的分析方法,通......
针对基于微压印成形三维MEMS器件制造工艺多层压印的需要,开发了一套基于视频图像对正原理的压印光刻对准系统.硬件系统以显微镜头......
本文根据分层制造对准系统的精度要求,研究了改善精度的软件补偿措施:设计了SUSAN和多帧平均降噪结合的无损滤波算法以减小滤波过......
针对目前研究的激光投影光刻机的对准需要，设计了一套基于视频图像对准原理的激光投影光刻对准系统。详细分析了共焦显微镜和CCD相......
提出了一种用于光刻装置的对准系统。该对准系统所用的标记包含多个相位子光栅。其中，标记±1级衍射光的光强信息用于产生粗对......
随着光刻机技术的发展,特征线宽尺寸减少到纳米级,对光刻机对准系统提出了更高的对准精度的性能指标。对准系统是光刻机最精密复杂......
提出了一种用于光刻装置的Si片-工件台对准系统。该对准系统采用多光栅对准标记，标记的每个方向有序排列着四个子光栅。对准时，单波......
对全自动光刻机的对准系统进行了分析与研究,探讨了整体机械结构、光学结构、安装时的步骤和要求,以及XY平台的静态特性分析。......
对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机(Stepper)的对准机制,......
为了用更简单的光学器件使对准标记产生的衍射光实现重叠干涉,同时能够降低对准系统的加工和装调难度,设计了基于瞳面干涉的自参考......
对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,NSR2205I14E2型光刻机的对准方式包括LSA和FIA,分析LSA与FIA的对准方式原理,比较各自的硬件......
贴片机对准系统的精度标定是视觉定位的关键环节,直接影响贴片精度与贴片质量。为提高对准系统标定精度,提出了基于光栅的精度标定......
为了消减压印对准系统焦平面调整过程中由于机构机械不稳定性产生的对准误差，提出了拟合调整架摆动轨迹来进行软件补偿的方法。通过......
提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基......
快速而准确地实现工件对准在工业自动化领域有着广阔的应用前景。在此基于图像处理技术构建了圆形工件的对准系统,对圆形工件的检......
介绍了贴片机自动对准系统的结构与工作原理,并对贴片机自动对准系统的硬件进行了设计,硬件部分由光学系统、运动控制系统和光源控......
为了拓展KrF光刻在小于 1 80nm的SIA设计规则技术阶段的制造能力 ,需要一种最大 0 7NA透镜的远紫外步进扫描曝光系统来提供足够的......
描述了相位光栅对准法在步进重复投影光刻机中的运用,通过比较同轴对准系统和离轴对准系统的原理,工作过程,阐述了当对准标记产生......
介绍用于"神光Ⅱ"激光聚变靶室的针孔相机的结构设计、工作原理、精度分析和研制结果。该针孔相机利用光学－ＣＣＤ－ＴＶ成象电动对准技术实现了......
提出一种新的适合对准标记图像处理的改进亚象素细分定位算法 ,并提供了完善这种定位算法的缩小检测窗口的方法。
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非制冷红外探测器的发展是从20世纪80年代开始的,因其具有成本低、无需制冷、可靠性高、可集成、工艺兼容性好等优点,在民用和军用......
随着印制电路板向大面积、高密度的方向发展,传统的用于印制电路曝光的方法如接触接近成像技术、步进重复成像技术、激光直接成像......
本专利是关于利用掩模和片子的对准图形进行对准的电—光对准系统,对准图形的象可以经过空间滤波器有选择地通过,每个对准图形包括......
随着集成电路特征尺寸的不断减小,I/O引脚数日益增加。对于高密度封装,尤其是2.5D/3D封装中,电子元件和基底快速而准确的对准十分......
阐述高分辨力光刻机的图像对准系统的原理及实现过程。着重介绍图像处理技术在高精度对准系统中的应用。并讨论系统应用中的图像处......
