纳米级薄膜相关论文
本文主要介绍了辉光放电光谱法分析金属材料表面的纳米级薄膜.通过优化辉光光源的放电参数,计算标准样品的溅射率.经过溅射率校准......
主要介绍了利用不同的表面分析技术测定钢板表面纳米级氧化膜的比较.辉光放电光谱法的分析速度快,分析结果定量、精密度实验表明测......
用磁控溅射技术在玻璃衬底上获得了取向单一的纳米级ZnS薄膜．研究了衬底温度对薄膜结构的影响．得出400℃时沉积的薄膜结晶最好，为六方......
沈阳拓荆科技有限公司成立于2010年4月，是国内唯一一家能够生产用于大规模集成电路生产线的量产型PECVD设备供应商。公司致力于研究......
介绍了利用辉光放电光谱法分析金属材料表面的纳米级薄膜。通过优化辉光光源的放电参数，计算标准样品的溅射率。溅射率经校正后，建立......
采用雪崩热电子注入技术研究了纳米级SiOxNy薄膜界面陷阱特性.证实了PECVD SiOxNy薄膜中界面陷阱来源于悬挂键的物理模型.观察到该......
建立接触模型,理论分析了微接触中边界膜剪切弹性模量对于接触性能的影响.接触区由两平行平面形成,属一维接触.上接触表面为粗糙表......
X 光检查低角度反射率测量被用来调查单身者和 bilayer 电影决定纳米规模结构的参数，三个有效方法被使用 X 光检查反射率分析提供纳......
