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连续沟槽相关论文
等离子体蚀刻衍射光学元件
本文研究了将光致抗蚀剂衍射光学元件的连续沟槽蚀刻到基底层上的技术。实验分析了基底层沟槽与原版沟槽的形状和深度之间的关系。......
期刊
等离子体蚀刻
衍射光学元件
连续沟槽
光致抗蚀剂
槽形
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深度分布
套刻
干涉显微镜
钻蚀
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