Al)N薄膜相关论文
铝及铝合金因其具有优异的性能,被广泛的应用于能源、交通、电子、建筑和国防工业等领域。然而,随着铝合金服役环境的日益恶劣,由......
在PVD阴极电弧系统中,本文镀膜条件分别采用基片偏压为100V和电弧电流偏压为70a,在氮气压力为1、1.5和2Pa的条件下,涂膜时间设定为......
采用射频磁控反应溅射在单晶Si（100）上沉积了一系列不同Al含量的（Zr,Al）N薄膜,利用能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）和微力学探......
采用射频磁控溅射，用Al靶和Ti靶同时溅射沉积（Ti，Al）N薄膜。研究表明：不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构（B1型），当Al靶功率大......
采用多弧离子镀技术在W18Cr4V表面制备出（Ti，Al）N硬质薄膜，研究了Al含量对（Ti，Al）N薄膜的形貌、硬度、膜基结合力、耐磨性、摩擦系数的影......
采用电弧离子镀(AIP)技术在航空发动机压气机用1Cr11Ni2W2MoV不锈钢上沉积(Ti,Al)N梯度薄膜,并研究其微观结构和高温抗氧化性能。......
本论文针对表面涂层技术在高速切削刀具中的应用，对采用磁过滤阴极弧源沉积技术（FCVA）制备（Ti，Al）N薄膜的工艺，系统地进行了研究。在制备......
本研究采用直流磁控溅射的方法在W 18Cr4V高速钢基体上制备不同Al/Ti比例的(Ti,Al)N薄膜,为此,在圆柱形磁控溅射Ti靶表面上,采用多......
