Al膜相关论文
烧结Nd-Fe-B磁体因其优异的综合磁性能而被广泛应用于航空航天、仪器仪表、电子通讯、医疗卫生及新能源等高精尖领域。与理论值相......
本文研究线状聚焦激光打靶时的离子发射特性.与点状聚焦时相比,线聚焦情况下离子发射的各向异性更为突出.当入射角α=22°时,离子......
随着能源紧缺与环境污染问题日益严重,太阳能的开发利用越来越受到重视,尤其是太阳能的光电利用越来越受关注。非晶硅薄膜太阳能电......
为了增加高频声表面波器件用Al薄膜的功率承受力以及与基体的附着力,同时不增加薄膜在化学反应刻蚀中的难度,并精确地控制图形的尺......
纳米压入仪对Si片上多晶Al膜进行的压入蠕变实验表明，加载方式对Al膜的蠕变性能有明显影响随加载速率和载荷的增大，Al膜的总蠕变量和......
用分子动力学方法模拟了Cu双晶和Al双晶薄膜的〈111〉生长,模拟时假定在薄膜平面内保持恒定的等轴双向应变,薄膜中两晶粒的能量计......
烧结NdFeB磁体由于具备优异的磁性能而被广泛地应用于各个领域,但由于磁体本身耐腐蚀性较差,限制了其进一步的应用。因此在工业实......
利用反应磁控溅射技术在有机玻璃（亚克力板）上完成Al的膜层制备,并进行了膜层表面的光泽度、附着力和耐腐蚀性等研究。实验发现,采用......
用直流磁控溅射法在室温Si基片上制备了溅射时间分别为5 min和10 min,氩气压强分别为0.7、3、6 Pa的6种Al膜,用光学相移法和X射线......
研究了声表面波器件研制过程中铝膜厚度准确控制技术及Al膜均匀性提高的技术。由理论分析推导出片架上的各点膜厚分布。根据片架各......
介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、......
采用直流磁控溅射在AZ31镁合金表面分别沉积了Al膜和TiN膜。对这两种膜的表面特性进行了研究和比较。扫描电子显微镜（SEM）观察到沉积......
采用直流磁控溅射方法成功地制备了Al膜，研究了退火温度对Al膜表面形貌、晶体结构、应力、择优取向及反射率的影响。研究表明：不同退......
高性能面料的研究一直是纺织材料研究的重点,其中高性能的隔热材料的创新对当前的安全防护产业的发展有着重要的意义。目前传统高......
利用ＳＥＭ、ＴＥＭ以及ｘ射线衍射，研究了磁控溅射Ａｌ膜的退火对膜组织 结构转变的影响。Ａｌ膜被磁控溅射在Ｎｉ基体上，所得镀膜分别经 １００℃、２００℃、 ３００℃、４００℃、５００℃......
