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采用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）技术，利用氩气、甲烷、二氧化碳混合气体，制备出平均晶粒尺寸在7．480nm左右，表面粗糙度在15．72nm左......
利用磁控溅射法将厚度可控的B掺杂到FePt多层膜中，构成FePtB多层膜体系。多层膜结构采用中问层掺杂和底层掺杂等方式组合，由此研究热......
以硼酸和钛酸丁酯为主要原料, 以活性炭(AC)为载体, 用溶胶-凝胶法制备了B掺杂TiO2/AC光催化剂.用X射线衍射(XRD)、紫外可见漫反射......
采用浸渍法制备了B掺杂的Cd0．5Zn0．5S光催化剂，考察了不同B掺杂量的Cd0．5Zn0．5S催化剂在可见光光照下的放氢活性和稳定性．实验结果表明，B......
利用等离子体增强化学气相沉积制备了未掺杂与掺硼富硅氧化硅薄膜。在高纯N2气氛中经过600℃、800℃和1100℃热处理,发现随着热处......
采用固体三氧化二硼,在硅衬底上用HFCVD法生长金刚石薄膜.对CVD金刚石薄膜的进行了表面形貌和结构进行了研究,并测试了不同硼掺杂......
