PCVD法相关论文
Fe-6.5wt%Si高硅钢具有高磁导率，近于零的磁致伸缩系数,中高频铁损低和矫顽力小等特性，因此被广泛应用于发电机、高频高速电机及变压......
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采用等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）法，在０．１～０．３ ｍｍ厚的普通硅钢片表面涂硅，再进行短时间高温扩散，使硅钢片的合Ｓｉ量增加到６．５％，铁损Ｐ１０／５０比原来钢片降低５０％，其他磁性能......
用等离子体化学气相沉积方法 (PCVD) ,在 0 .1～ 0 .3mm厚的普通硅钢片表面涂硅 ,再进行短时间高温扩散 ,使硅钢平均含硅量达 6 .5 %......
提高硅钢片磁性能的最佳途径是提高钢片的硅含量。本研究采用等离子体化学气相沉积 ( PCVD)法 ,在( 0 .1～ 0 .3) mm厚的普通硅钢片......
简述等离子体的物理概念及其获得方法.重点介绍等离子体技术在材料领域中的表面改性,并论述了PCVD法涂Si的原理及动力学和热力学问......
<正> 随着大功率电子、光电子、微波器件以及超大规模IC技术的飞速发展,急需新的热沉材料,用高导热高绝缘金刚石膜代替目前常用的......
通过挤压轮的失效形式分析,表面裂纹是引起其失效的主要原因。应用PCVD法对挤压轮（H13）进行表面改性处理,在其表面备制了一层T（iCN）涂......
建立和发展了非脉冲式的直流热阴极PCVD(Plasma Chemical Vapour Deposition)方法.通过采用温度为1100℃～1500℃的热阴极以及阴极和......
用等离子体增强化学气相沉积 (PCVD)法和化学气相沉积 (CVD)法分别制备 Ti N系薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射仪和连续加载压入仪......
随着电子技术的不断发展，电容器作为主要的电子元件也在不断的更新换代，铝电解电容器作为电容器家族中的重要组成部分，是电容器研究者......
