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侧壁间隔层转印图形化技术,也可称为频率加倍、节距降低、间隔层掩膜图形化或者SADP,正更多地为NAND闪存制造商所采纳。本文描述了......
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指出为分析复杂结构晶体的单晶ＳＡＤＰ用ｈｋｌ法编制计算机程序时遇到的困难，提出一种纯ｈｋｌ法并给出了这种方法的特有部分的数理分析结果．......
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With the introduction of EUV lithography,the photolithographic process in 5 nm logic process can be simplified to use mo......
