用激光脉冲沉积技术(PLD),以N型(100)Si为基底在300℃下制备100nm非晶STO薄膜,分别用常规退火(CFA),快速退火(RTA)以及激光诱导晶......

以Ti(OCH).SrCl.6HO为主要原料，采用溶胶－凝胶法制备了SrTiO和掺铁SrTiO薄膜。通过电镜和X衍射分析了薄膜的结构，并分析比较了烧成温......

本文应用高分辨X射线衍射(HRXRD+TAXRD)技术对外延生长的SrTiO膜进行了分析,获得了有关该薄膜的晶体取向、衬底的结构特性以及弛豫......

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