Ti薄膜相关论文
采用磁控溅射技术在异形工件表面制备薄膜时,工件各个部位与溅射靶材之间存在不同的倾斜角度,会导致“阴影效应”。“阴影效应”的......
根据气体放电双峰曲线中伏安特性处于“欧姆-反欧姆”过渡区间时,其电子迁移通量将数十倍于磁控溅射离子镀、靶电压数倍于多弧离子......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
建立不同类型的原子团簇模型,利用电荷自洽离散变分法计算了Ti薄膜中不同晶体结构的原子间化学键键能,分析了薄膜中晶体的局域态密......
采用直流磁控溅射加负偏压的方法制备了Ti膜，研究了不同偏压条件对Ti膜沉积速率、密度、生长方式及表面形貌的影响。随着偏压逐渐增......
高功率脉冲磁控溅射因其溅射原子离化率较高，在薄膜沉积中表现出巨大的优势，成为当前磁控溅射技术领域一个新的发展趋势。在此基础上......
采用离子镀技术于淬火态GCr15表面沉积Ti镀层,通过改变脉冲宽量,对GCr15基体温升进行控制。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜......
控制磁控溅射工艺中的溅射功率为变量,在玻璃基体上沉积了相同厚度的纯Ti金属薄膜。采用原子力显微镜、X射线衍射仪、纳米压痕仪、......
利用三维动态蒙特卡洛模型模拟了Si基底上沉积Ti薄膜的初始期间的生长特性。模拟结果发现,在扩散截止步长为50的情况下,沉积温度和......
ZnO是一种II–VI宽带隙直接半导体化合物，常温下其带隙宽度约为3.37eV，激子束缚能高达60meV，它具有优异的化学性质、热稳定性及电学性......
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