光栅掩模相关论文
利用有限元法并结合射频磁控溅射法制备不同厚度Cr膜的透光率的研究,模拟了金属平板超透镜近场成像特性.研究了作为“物”的Cr光栅......
在特定的工艺条件下 ,光刻胶的非线性效应非常显著 ;合理地利用非线性效应 ,能够制作出近似矩形的全息光栅掩模。为了分析清楚非线......
由于衍射极限的存在,限制了光学成像和光刻系统的分辨率。随着表面等离子激元理论研究的深入和工艺技术的进步,利用表面等离子体放......
基于曝光和显影理论对shipley光刻胶显影速度随曝光量的变化进行研究,得到其数学表达式.通过改变激光波长以及曝光量,显影液的温度......
文中通过台阶实验的数据结合光刻胶光栅掩模的槽形,得到光刻胶特性参数,利用这些参数可以模拟出任一曝光量,任一显影时间,任一空频......
对瑞红胶及Shipley胶制作光栅掩模时的有效曝光量进行了实验.结果表明瑞红胶全息曝光对应的感光效率只是单束光曝光感光效率的0.65......
期刊
本文系统地研究了Shipley光刻胶制作光栅掩模的曝光和显影过程,建立了掩模制作的曝光模型和显影模型。根据模型模拟了光栅掩模的最......
