化学机械相关论文
铜化学机械平面化不同阻挡层浆料的应用引起了铜CMP后清洗的问题。阻挡层浆料的差异包含但不限于pH、研磨剂粒子材料和尺寸及铜腐......
目的对传统高速牙钻法、Carisolv(伢典)微创化学机械法、Er,Cr:YSGG激光法去腐后牙本质表面微观形态及去腐时间进行评估。方法 30......
目的探讨化学机械法去腐与传统牙科手机去腐对充填体边缘微渗漏的影响。方法选取50颗龋坏离体牙为研究对象,采用简单随机法进行分......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
在一定的工况参数条件下,机械作用和化学作用匹配时,可以获得高的材料去除率和无表面层及亚表层损伤的高质量的抛光表面.在化学机......
化学机械抛光（chemical mechanical polishing, CMP）技术是目前集成电路制造中制备多层铜互连结构不可或缺的关键技术之一。在应用CM......
对木聚糖酶预处理的麦草碱法化学机械制浆与漂白过程中木聚糖酶处理的效果进行了研究.结果表明,在制浆与漂白前酶预处理段较佳的木......
化工机械基础是中职院校化工类专业的基础课程，培养和提高职校学生动手实践能力是职业院校教学的一项重要目标，也是当前素质教育的一......
12月15日,由中国国家知识产权局和世界知识产权组织共同主办的第十七届中国专利奖颁奖大会在北京举行。国家知识产权局局长申长雨......
为了实现高效率、高质量地加工硅片,提出一种超声椭圆振动辅助固结磨粒化学机械复合研磨硅片的新方法。首先简要介绍该方法所用装......
相比一般的金属材料,工程陶瓷具有高强度、高硬度、高脆性、耐磨损和耐腐蚀、隔热、低密度、低膨胀系数及化学稳定性好等特点,被广......
<正>For the purpose of solving the problem that too large pole tip recession (PTR) is produced in magnetic rigid disk be......
为优化氮化硅陶瓷滚子化学机械复合抛光技术工艺参数,得到高性能氮化硅陶瓷滚子。通过改变抛光机主轴转速及磁流变抛光液温度,探究......
目的:研究化学机械去腐技术治疗龋病的疗效和安全性分析。方法:选择2010年5月至2011年5月宁波市镇海区炼化医院收治的有深、中龋齿......
期刊
基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的......
龋病的治疗过程中，彻底清除腐败牙本质组织是关键的步骤，临床目前多使用牙钻进行磨除龋坏组织，由于牙钻产生的振动和热刺激常使患者疼......
随着科技的发展，电子设备在人们生活中已经十分普及，成为了日常生活中的必需品和消耗品。单晶硅以其优良的性能、低廉的价格和易制备......
目的：比较Carisolv去龋(化学机械法微创去龋)和传统车针去龋在治疗乳牙龋坏时的去龋时间。比较患儿对两种去龋方法的接受程度。6个......
简述用于工程陶瓷精密加工的研磨液主要成分及其作用,综述了近年来国内外工程陶瓷精密加工研磨液的发展现状,通过对加工中金刚石研......
