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一、绪言随着祖国光学工业和电子工业的迅速发展,对多层膜的镀制和控制,提出了更高的要求。为了能够精确、方便地控制多层膜的沉......
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磁控溅射技术由于它的“高速、低温”两个显著特点，国外在七十年代它的应用已得到了迅速的发展。目前，国内也正在积极地研制磁控溅射......
