双靶磁控溅射相关论文
磁控溅射主要用于针对越来越多的各种创新性应用在基材上大面积沉积多层结构薄膜.脉冲电源用于介电和半导体化合物的反应沉积,从而......
采用双靶反应磁控溅射的方法在40Cr基体上制备了TiAlN薄膜和WTiN薄膜。用XRD,SEM,AFM等检测手段对薄膜的表面状态及结构等进行了表......
非晶态合金原子的排列方式与无机玻璃相似，具有短程有序而长程无序的特点，没有晶胞和晶粒等晶体学概念。该类材料具有一系列独特的物......
Cu-W薄膜具有高导热导电性及低的热膨胀系数等优点,广泛应用于微电子及电子器件领域。但铜和钨互不固溶、浸润性差,常规方法很难制......
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