四面体非晶碳膜相关论文
在大数据时代,冯·诺依曼瓶颈已严重限制了计算机的高效处理能力,而人脑具备高效、低功耗和处理复杂问题的优势,同时其功能的完成......
本论文包含三个部分：1.利用离子注入技术对四面体非晶碳(tetrahedral amorphouscarbon，ta-C)膜进行增强改性，以降低膜的内应力；同时对......
利用自主研制的45°单弯曲阴极电弧沉积系统,通过改变Ar流量(2,5以及10 ml/min),在p型(100)硅基底上制备了四面体非晶碳膜。借助表......
目的通过系统研究电弧离子镀偏压对四面体非晶碳膜(ta-C膜)结构及性能的影响规律,阐明偏压对ta-C膜结构及性能的影响机制,为拓展ta......
采用自主研制的45°单弯曲磁过滤阴极电弧沉积系统于Si基体表面制备了四面体非晶碳（ta-C）膜，研究了基体负偏压对薄膜沉积速率、成......
目的：在牙科钴铬合金表面制备四面体非晶碳膜，并对薄膜质量进行表征评价。方法：制备直径12mm、厚2mm的牙科钻铬合金试件，采用阴极真空......
采用自主研制的激光引弧磁过滤真空阴极电弧沉积设备在不同工件台转速下制备了四面体非晶碳膜,通过改变工件台转速调节沉积速率,探......
目的研究不同等离子体刻蚀工艺对基体和四面体非晶碳膜（ta-C）的影响,并进一步考察不同电弧等离子体刻蚀时间对ta-C薄膜结构的影响。......
材料基因组工程能大幅度提高材料研发速度,降低材料研发成本,近年来受到广泛关注。本研究采用高通量制备工艺,结合碳等离子体束流......
利用自主研制的45°双弯曲磁过滤阴极真空电弧技术制备超薄四面体非晶碳膜,研究了膜厚变化对超薄四面体非晶碳膜残余应力和微观结......
磁过滤阴极弧等离子体沉积系统能过滤阴极弧放电时产生的大颗粒，制备金属和合金薄膜材料，而且能制备性能优异的无氢类金刚石膜，从而越......
